荷蘭當(dāng)?shù)貢r(shí)間 1 月 19 日，光刻機(jī)廠商 ASML 發(fā)布了其 2021 年第四季度和全年財(cái)報(bào)。

ASML 第四季度營(yíng)收 49.86 億歐元(約合 359 億人民幣)，其中 EUV 光刻機(jī)賣出 11 臺(tái)，銷售額為 16 億歐元(約合 115 億人民幣)。全年來(lái)看，ASML 收入為 186 億歐元(約合 1339 億人民幣)，共賣出了 42 臺(tái) EUV 光刻機(jī)，其銷售額占光刻機(jī) 136 億歐元(約合 979 億人民幣)銷售額的 46%。另外，ASML 2021 年還獲得了 262 億歐元(約合 1886 億人民幣)的訂單，同比增長(zhǎng)超過 200%。

由于中國(guó)、美國(guó)、日本、韓國(guó)等各國(guó)的半導(dǎo)體激勵(lì)政策，ASML CEO Peter Wennin 十分看好半導(dǎo)體市場(chǎng)的長(zhǎng)期發(fā)展，預(yù)計(jì)到 2025 年，由于各芯片廠商的資本支出提升，ASML 營(yíng)收將達(dá)到 240 億歐元-300 億歐元(約合 1728 億-2160 億人民幣)。

此外，ASML 還收到了來(lái)自英特爾的首個(gè) EXE:5200 光刻機(jī)訂單。該光刻機(jī)是 ASML 最新的 High-NA 光刻機(jī)，有著更高的光刻精度，單臺(tái)售價(jià)超過 3 億美元(約合 19 億人民幣)，預(yù)計(jì)將在 2025 年進(jìn)入產(chǎn)線。

一、Q4 營(yíng)收 50 億歐元，七成來(lái)自邏輯終端

2021 年第四季度，ASML 收入為 49.86 億歐元，同比增長(zhǎng) 17.19%。

利潤(rùn)方面，第四季度 ASML 的毛利率為 54.2%，高于去年同期的 52%。2021 年第四季度 ASML 凈利潤(rùn) 17.73 億歐元(約合 127 億人民幣)，高于預(yù)期的 15.1 億歐元(約合 108 億人民幣)。

▲ ASML 2018 年 Q4-2021 年 Q4 營(yíng)收、凈利潤(rùn)與毛利率變化

第四季度，ASML 對(duì)光刻機(jī)系統(tǒng)銷售的收入有 35 億歐元(約合 252 億人民幣)，其中 73% 的銷售額來(lái)自邏輯終端，其余 27% 來(lái)自內(nèi)存終端。

具體來(lái)說(shuō)，ASML 該季度一共出貨了 12 個(gè) EUV 光刻機(jī)，并確認(rèn)了其中 11 個(gè) 16 億歐元的收入，平均每臺(tái) EUV 光刻機(jī)售價(jià) 1.45 億歐元(約合 10.4 億人民幣)。ArFi 光刻機(jī)的營(yíng)收則占 35%，是第二多的光刻機(jī)類型;KrF 型光刻機(jī)賣出數(shù)量最多，但 35 臺(tái) KrF 光刻機(jī)的銷售額只占其收入的 10%。

▲ ASML 2021 年三季度、四季度各類型光刻機(jī)銷售情況對(duì)比

在全球缺芯的氛圍中，其客戶在不斷升級(jí)軟件生產(chǎn)力，提升系統(tǒng)產(chǎn)量。而受軟件升級(jí)的推動(dòng)，ASML 在第四季度的安裝管理(Installed base Management)業(yè)務(wù)收入高于預(yù)期，為 15 億歐元。

值得注意的是，ASML 第四季度還獲得了多項(xiàng)訂單，其光刻機(jī)訂單金額為 71 億歐元(約合 511 億人民幣)，包括 26 億歐元的 0.33 孔徑的 EUV 光刻機(jī)訂單和一個(gè) 0.55 孔徑的 EXE:5000 光刻機(jī)訂單。

EXE:5000 光刻機(jī)能夠提供 0.55 NA 的數(shù)值孔徑，相比于先前配備 0.33 NA 透鏡的 EUV 光刻機(jī)，EXE:5000 精度更高，能夠在光刻中實(shí)現(xiàn)更高的分辨率，制造尺寸更小的晶體管。

該型號(hào)光刻機(jī)是 ASML 的首個(gè) High-NA 產(chǎn)品，預(yù)計(jì)將在 2024 年出貨。本訂單是 EXE:5000 的第五份訂單。

二、全年?duì)I收 186 億歐元，EUV 光刻機(jī)銷售額占 46%

2021 年，ASML 全年?duì)I收增長(zhǎng) 33%，達(dá) 186 億歐元。其中 EUV 光刻機(jī)銷售額為 63 億歐元(約合 453 億人民幣)，較去年增長(zhǎng) 41%;非 EUV 光刻機(jī)銷售額為 74 億歐元(約合 532 億人民幣)，較去年增長(zhǎng) 26%。

▲ ASML 2018 年-2021 年?duì)I收、凈利潤(rùn)變化

在訂單方面，2021 年 ASML 總預(yù)定訂單金額為 262 億歐元(約合 1886 億人民幣)，同比增長(zhǎng)超過 200%。

在細(xì)分市場(chǎng)，ASML 來(lái)自邏輯終端的收入為 96 億歐元(約合 691 億人民幣)，增長(zhǎng) 30%;來(lái)自內(nèi)存終端的收入則為 41 億歐元(約合 295 億人民幣)，比去年增長(zhǎng) 39%，光刻機(jī)系統(tǒng)銷售額超過 136 億歐元(約合 979 億人民幣)。安裝基礎(chǔ)業(yè)務(wù)增長(zhǎng)了約 35%，為 50 億歐元(約合 360 億人民幣)。2021 年，ASML 研發(fā)支出為 25 億歐元(約合 180 億人民幣)，占 2021 年銷售額的 14%。

▲ ASML 2017 年-2021 年?duì)I收與各終端收入占比

2021 全年，ASML 光刻機(jī)銷售額為 136.53 億歐元，其中最先進(jìn)的 EUV 光刻機(jī)銷售額占 46%，ArFi 光刻機(jī)銷售額占 36% 較去年有所下降。

▲ ASML 2021 年和 2020 年各類型光刻機(jī)銷售情況對(duì)比

三、最新光刻機(jī)獲訂單，2025 年收入將達(dá) 300 億歐元

回顧了 ASML 全年?duì)I收、凈利潤(rùn)的增長(zhǎng)后，ASML 的 CEO Peter Wennink 對(duì)其 2022 年業(yè)績(jī)作出了展望。

對(duì)于 2022 年第一季度，ASML 預(yù)計(jì)將營(yíng)收 33 億歐元-35 億歐元(約合 237 億-251 億人民幣)，包括安裝基礎(chǔ)管理業(yè)務(wù)預(yù)計(jì)約 12 億歐元的收入，毛利率約為 49%。

相比此前各季度，2022 年第一季度的收入較低。Peter Wennink 解釋道，這是因?yàn)?ASML 的部分光刻機(jī)在經(jīng)過最終測(cè)試之前就已交付給客戶，以提升出貨速度。這意味著未來(lái)幾個(gè)季度，ASML 將確認(rèn) 20 億歐元的額外收入，彌補(bǔ)該季度較低的營(yíng)收。

Peter Wennink 補(bǔ)充道，由于全球電子行業(yè)的發(fā)展，半導(dǎo)體市場(chǎng)將繼續(xù)迎來(lái)發(fā)展，在 2022 年全年，ASML 的營(yíng)收預(yù)計(jì)將增長(zhǎng) 20%，其中 EUV 光刻機(jī)預(yù)期將出貨 55 臺(tái)，收入 78 億歐元(約合 561 億人民幣)。

Peter Wennink 稱，ASML 和客戶溝通后發(fā)現(xiàn)，其資本支出的普遍上漲并非由短期的需求驅(qū)動(dòng)的，相反其上漲是各國(guó)保障半導(dǎo)體供應(yīng)安全這樣的長(zhǎng)期趨勢(shì)所驅(qū)動(dòng)的。因此，在 2025 年 ASML 的年?duì)I收預(yù)計(jì)將漲到 240 億至 300 億歐元，毛利率約 54% 至 56%。

同天，英特爾宣布向 ASML 發(fā)出了第一份 High-NA EXE:5200 光刻機(jī)采購(gòu)訂單，以在 2025 年開始使用 High-NA EUV 光刻機(jī)制造芯片。該系統(tǒng)每小時(shí)可以生產(chǎn) 200 多片晶圓，單臺(tái)售價(jià)超過 3 億美元。

結(jié)語(yǔ)：各國(guó)半導(dǎo)體激勵(lì)推動(dòng)市場(chǎng)增長(zhǎng)，新技術(shù)良率或成關(guān)鍵

從 ASML 2021 年財(cái)報(bào)來(lái)看，其營(yíng)收增長(zhǎng)較快。從各國(guó)重建半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的激勵(lì)來(lái)看，半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)將會(huì)迎來(lái)長(zhǎng)期的增長(zhǎng)，ASML 的營(yíng)收會(huì)持續(xù)提升。

在當(dāng)下摩爾定律逐漸放緩的半導(dǎo)體市場(chǎng)中，ASML 最先進(jìn)的 EUV 光刻技術(shù)一直是人們的關(guān)注焦點(diǎn)，EUV 光刻機(jī)已成為邏輯芯片制程演進(jìn)必需的設(shè)備。但同時(shí)，超過 3 億美元的單臺(tái)售價(jià)也將推動(dòng)先進(jìn)制程芯片的制造成本，如何將新的 High-NA 光刻機(jī)應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)且保證產(chǎn)品良率將是英特爾等芯片廠商需要面對(duì)的挑戰(zhàn)。